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化学气相沉积
参考价:

型号:BTF-1200C-R-S-PECVD

更新时间:2021-10-14  |  阅读:565

详情介绍

迷你智能型等离子体可回转化学气相沉积系统

1.该设备炉管可360度旋转,管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀;

2.该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD),系统可以实现连续滑动温区,连续可控温度以及Plasma强度等,配备真空系统,可以实现低压条件下的实验,针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光均匀等效,这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态,这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍,并解决了物料不均匀堆积现象。

化学气相沉积的技术参数:

型号

BTF-1200C-S-R-PECVD

显示模式

7"液晶触屏显示

最高温度

1200℃

升温速率

10℃/S

加热区长度 230mm

控温精度

±1℃

加热元件

电阻丝

热电偶

K型

控温方式

7"液晶触屏与工控仪表双重控温,模糊PID控制和自整定调节,人工智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能。

炉管尺寸

Φ25*800mm

炉管转速

3~13r/min

倾斜角度

0~35°

加热功率

3KW

射频功率输出范围

0~500W

供气系统

标配三路质量流量计(50/100/200sccm)

供电电源

220V50Hz

通讯接口

USB

外形尺寸

1600mm*650mm*1400mm

设备净重

约220KG



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